Ava Botanical hitech liftingový krém na obličej 50ml

Dostupnost Na externím skladu (5 ks)
Můžeme doručit do:
7.1.2025
Možnosti doručení
227 Kč 188 Kč bez DPH
Ava Botanical hitech liftingový krém na obličej 50ml

Zákazník na prvním místěSpokojený zákazník je nejlepší zákazník

Nejvýhodnější ceny na trhuDoprava zdarma od 2 000 Kč

Obrovský výběrVíce než 100tis. produktů v nabídce

Garance spokojenostiUděláme vše pro Vaši spokojenost

Každodenní péče, která splní očekávání?

Samozřejmě!

Seznamte se s liftingovým krémem od Ava Botanical, který se o vaši pleť během dne efektivně a dlouho postará. trvale!

Výrobek byl vytvořen v souladu s přírodou, protože obsahuje až 98 % složek přírodního původu.

Hluboce hydratuje a vyživuje i hlubší tkáně pokožky .

Zlepšuje jeho pevnost a pružnost, bez nepříjemného pocitu pnutí.

Slouží také jako podklad pod make-up.

Inovativní složení krému postupně uvolňuje účinné látky a prodlužuje tak jejich účinek.

Díky tomu se dostávají do hlubších vrstev pokožky.

Krém zajišťuje mladší vzhled pleť po celý den vyživuje, hydratuje, vyhlazuje, zpevňuje pokožku 98% složek přírodního původu: Aqua, Glycerin, Persea Gratissima Oil, Polyglyceryl-4 Laurate, Cetearyl Alcohol, Kyselina stearová, Polyglyceryl-2 stearát, Prunus Amygdalus Dulcis Oil, Polyglyceryl-6 Laurate, Octyldodecyl Oleate, Olus Oil, Macadamia Ternifolia Seed Oil, Glyceryl Stearate, Stizolophus Balsamita Flower Extract, Larix Gmelinii Wood Extract, Octyldodecyl Oleate, Larixlequalpa Lentil Kyselina, glycin, sojový olej, extrakt z Coenochloris Signiensis, fosfolipidy, maltodextrin, stearylalkohol, oktyldodecylstearoylstearát, xanthanová guma, škrob Zea Mays, butylenglykol, kyselina polyhydroxystearová, tokoferol, kyselina palmitová-beta-xit-hexenylethanol glycerin, sodík Benzoát, Hydroxid sodný, Sorbát draselný, Kyselina citronová, Kyselina sorbová, Parfém Kapacita: 50 ml Typ: Na den i noc
Vzorec: Přírodní
Typ pleti: Jakýkoli typ
Kapacita: 50 ml
Vlastnost: Zvedání

Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.

Nevyplňujte toto pole:

Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.

Nevyplňujte toto pole: