Delia Cosmetics Stay Flawless Matt Mattifying Foundation 16H No. 403 Vanille 30ml

Dostupnost Na externím skladu (>5 ks)
Můžeme doručit do:
6.1.2025
Možnosti doručení
203 Kč 168 Kč bez DPH
Delia Cosmetics Stay Flawless Matt Mattifying Foundation 16H No. 403 Vanille 30ml

Zákazník na prvním místěSpokojený zákazník je nejlepší zákazník

Nejvýhodnější ceny na trhuDoprava zdarma od 2 000 Kč

Obrovský výběrVíce než 100tis. produktů v nabídce

Garance spokojenostiUděláme vše pro Vaši spokojenost

ZŮSTAŇTE FAWLESS MATT SKIN DEFINED matující make-up 30 ml Lehkost a matný efekt bez zátěže po dobu 16 hodin!

Vyrovnává tón pleti a koriguje nedokonalosti pleti.

Vlastnosti: - kontroluje sekreci kožního mazu během dne pleť dokonale zmatní a vyhladí až na 16 hodin, - hedvábná textura má stahující účinek na rozšířené póry, napomáhá pleti znovu získat rovnoměrný povrch bez viditelných nedokonalostí, - vyrovnává tón pleti a koriguje nedokonalosti pleti , - přizpůsobí se barvě pleti, - dokonale se kombinuje s bází a korektorem z řady SKIN DEFINED od Delia, - světlo rozptylující látky obsažené v podkladové bázi dodávají pleti jas, - neobsahuje parabeny a parafínový olej, - doporučeno pro normální, smíšenou a mastnou pleť, - obsahuje cenné složky: vitamíny E, B3, extrakt ze zeleného čaje a lotosu.

Složení: Aqua, Dimethicone, Isododecan, Cyclopentasiloxane, Silica , PEG-10 dimethikon, dimethikon/vinyldimethikonový křížový polymer, kaprylyl methikon, propandiol, cetyl PEG /PPG-10/1 dimethikon, cyklohexasiloxan, C12-15 alkylbenzoát, PEG/PPG-18/18 dimektorit, promoniumpylen, dimectorit Triethoxykaprylsilan, stearoylglutamát sodný, tokoferol, tokoferylacetát, niacinamid, extrakt z květů nelumbo nucifera, extrakt z listů Camellia Sinensis, propylenglykol, butylenglykol, kyselina polyhydroxystearová, oxid hlinitý, kyselina fenylstearová, hexhexyl- sulfát sodný kouř, [ +/- CI 77891, CI 77491, CI 77492, CI 77499 ] Typ: S aplikátorem
Vlastnosti: Neprůhledné
Zamýšlené použití: Na obličej
Odstín: 403 vanilka

Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.

Nevyplňujte toto pole:

Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.

Nevyplňujte toto pole: