Kf polarizační filtr Cpl K&f Nano-x Mrc 58mm

Dostupnost Na externím skladu (>5 ks)
Můžeme doručit do:
8.1.2025
Možnosti doručení
854 Kč 706 Kč bez DPH
Kf polarizační filtr Cpl K&f Nano-x Mrc 58mm

Zákazník na prvním místěSpokojený zákazník je nejlepší zákazník

Nejvýhodnější ceny na trhuDoprava zdarma od 2 000 Kč

Obrovský výběrVíce než 100tis. produktů v nabídce

Garance spokojenostiUděláme vše pro Vaši spokojenost

Nové zboží, v originálním balení. Polarizační filtr CPL NANO-X PRO MRC Velikost filtru: 58mm NEJKVVALITNĚJŠÍ FILTR URČEN PRO PROFESIONÁLY FILTR S INOVATIVNÍM NANO-PLÁŠTĚNÍM HD - vysoké optické rozlišení použitého skla NANO-X PRO MRC - Antireflexní a ochranné nanovrstvy Super low SLIM profil (tloušťka pouze 5 mm) Velmi pevné a odolné pouzdro z hliníku Magnalium Obsahuje pevný obal pro uložení filtru MODEL: KF01.1220 / 58mm Nano X CPL Produkt společnosti: K&F CONCEPT - nezpochybnitelný lídr kvality ve výrobě fotografických filtrů . K&F CONCEPT představuje vynikající kvalitu profesionálních polarizačních filtrů CPL. Jedná se o filtry na horní polici, existuje jen málo filtrů, které by se vyrovnaly svou kvalitou zpracování a úrovní pokroku. Filtr má na optickém skle navrstvených asi tucet nano povlaků. Polarizační filtr je perfektním doplňkem zejména pro fotografování krajiny. Polarizační filtr zvyšuje kontrast fotografií a sytost barev. CPL filtr eliminuje odlesky a odrazy nejen od skleněných, ale i kovových povrchů. Díky tomu je možné pořizovat například fotografie přes sklo. Polarizační filtr CPL propouští pouze lineárně polarizované světlo ve zvoleném směru. Díky tomu filtr částečně pohltí světlo rozptýlené v atmosféře, což je patrné zejména při fotografování oblohy, která při zachování bílé barvy mraků ztmavne. CPL filtr také umožňuje výrazné zlepšení sytosti barev neprůhledných povrchů (např. zelené rostliny) a snížení odrazů od průhledných povrchů (např. vodní hladina nebo sklo). Vlastnosti filtru K&F CPL NANO-X PRO MRC: Vyrobeno z nejkvalitnějšího optického skla, díky kterému je propustnost světla mnohem vyšší a činí přes 99,9%. vylepšit pořízené fotografie. Filtr je také pokryt povlaky, které jsou vysoce odolné proti poškrábání a mechanickému poškození. Nátěry výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a dalších typů nečistot. Skvělá hodnota za peníze. Filtr CPL NANO-X PRO MRC je určen pro všechny fotoaparáty a videokamery s průměrem objektivu 58 mm. Filtr je vhodný pro fotoaparáty s následujícími modely objektivů: Nikon: AF-S DX NIKKOR 55-300 mm f/4.5-5.6G ED VR AF-S NIKKOR 50 mm f/1.4G NIKKOR AF-S 50 mm f/1.8G Canon : EF-S 18-55 mm f/3,5-5,6 IS STM EF-S 18-55 mm f/3,5-5,6 IS II EF 24 mm f/2,8 IS USM EF 28 mm f/1,8 USM EF 28 mm f /2,8 IS USM EF 50 mm f /1,4 USM EF 85 mm f/1,8 USM TS-E 90 mm f/2,8 EF 100 mm f/2 USM EF 100 mm f/2,8 Macro USM EF-S 55-250 mm f/4-5,6 IS EF 70 -300 mm f/4-5,6 IS USM EF 70-300mm f/4.5-5.6 DO IS USM EF 75-300mm f/4-5.6 III EF 75-300mm f/4-5.6 III USM Olympus: M.ZUIKO DIGITAL ED 40-150mm 1:4.0-5.6 R M.ZUIKO DIGITAL ED 14-150mm 1:4,0-5,6 M.ZUIKO DIGITAL ED 75mm 1:1,8 M.ZUIKO DIGITAL ED 75-300mm 1:4,8-6,7 M.ZUIKO DIGITAL ED II07mm-1:36.3 ZUIKO DIGITAL ED 70-300mm 1:4.0-5.6 Pentax: SMC Pentax-DA* 55mm F1.4 SDM SMC Pentax-DA 55-300mm F4-5.8 ED SMC Pentax-DA L 55-300mm F4 -5.8 ED-Sigma: 300 F4-5,6 DG MACRO 70-300 F4-5,6 APO DG MACRO Panasonic: LUMIX G X VARIO 12-35mm / F2,8 ASPH. Objektiv Samsung: 18-55mm F 3,5-5,6 OIS Objektiv S1855SB SPECIFIKACE FILTRU: Vyrobeno z nejkvalitnějšího japonského optického skla Oboustranný 18vrstvý povlak (NANO-X PRO MRC) optické sklo Ochranný povlak: hydrofobní, proti oleji, anti -prach, anti- - Špinavý, odolný proti poškrábání. Nemění barvu rámu - je zcela neutrální Super tenký a lehký, SLIM hliníkový rám, tloušťka pouze 5 mm Velmi pevné a odolné pouzdro z hliníku Magnalium Žádný negativní dopad na chod systému AUTOFOCUS Pevný ochranný box na filtr součástí balení Super tenký a lehký hliníkový rám SLIM o tloušťce pouhých 5 mm. Filtr je pokryt povlaky, které jsou vysoce odolné proti poškrábání a mechanickému poškození. Poskytují vynikající ochranu filtru i v těch nejtěžších podmínkách Filtr má povlaky, které výrazně usnadňují čištění filtru a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a dalších typů nečistot Příklad použití K&F CONCEPT CPL NANO-X PRO MRC Pozor! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další doplňkové příslušenství zobrazené na fotografiích je pouze ilustrativní a není předmětem prodeje.

Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.

Nevyplňujte toto pole:

Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.

Nevyplňujte toto pole: