Nano-x Mrc K&f Concept UV filtr pro Fujifilm X100 X100s X100v X100f X100vi / Kf01.2703

Dostupnost Na externím skladu (>5 ks)
Můžeme doručit do:
15.1.2025
Možnosti doručení
675 Kč 558 Kč bez DPH
Nano-x Mrc K&f Concept UV filtr pro Fujifilm X100 X100s X100v X100f X100vi / Kf01.2703

Zákazník na prvním místěSpokojený zákazník je nejlepší zákazník

Nejvýhodnější ceny na trhuDoprava zdarma od 2 000 Kč

Obrovský výběrVíce než 100tis. produktů v nabídce

Garance spokojenostiUděláme vše pro Vaši spokojenost

NANO-X MRC UV fototapetový filtr Navrženo pro fotoaparáty FujiFilm: X100VI X100V X100F X100T X100S titan) účinně eliminuje možné žloutnutí obrazu Filtr zabraňuje odrazům a efektům protisvětla a zajišťuje dokonalou ostrost obrazu Ultra HD - vysoké optické rozlišení použitého skla 28 antireflexních a ochranných nano-povlaků Extrémně nízký SLIM profil (tloušťka pouze 3,3 mm) Kroužek z hliníku galvanicky pokovený v tmavé barvě Sada obsahuje pevný obal pro uložení filtru FILTR S INOVATIVNÍM NANO-COATING Vysoké optické rozlišení použitého skla NANO-X MRC - antireflexní a ochranné nano-povlaky Extrémně nízký SLIM profil (tloušťka pouze 3,3 mm) Prsten z hliníku galvanicky pokovený v tmavé barvě Sada obsahuje pevný obal pro uložení filtr Produkt společnosti: K&F CONCEPT - nezpochybnitelný lídr kvality ve výrobě fotografických filtrů MODEL: KF01.2703 / UV MRCFSpolečnost K&F CONCEPT představuje výjimečnou kvalitu profesionálních UV filtrů.

Jsou to prémiové filtry, jen málo filtrů odpovídá jejich kvalitě zpracování a úrovni pokroku.

Filtr má mnoho nano vrstev – povlaků nanesených na optické čočce.

Ultrafialový filtr – UV absorbuje ultrafialové záření a odřízne záření, které je nejintenzivnější v podmínkách, kdy je vzduch extrémně čistý (zejména na horách a u moře), což způsobuje zamlžení fotografií.

UV filtr NANO-X MRC zlepšuje kvalitu fotografií a při zároveň dokonale chrání čočku před všemi druhy pylu, mastnoty, prachu a mechanického poškození.

Vlastnosti filtru K&F UV NANO-X MRC: Vyrobeno z nejkvalitnějšího optického skla, které umožňuje vysoké světlo přenos (přes 99,9 %) Filtr má speciální nanovrstvy, které účinně snižují odrazy a zlepšují kvalitu fotografií. Filtr je pokryt vrstvami, které jsou vysoce odolné proti poškrábání a mechanickému poškození.

Povlaky také usnadňují čištění. filtry a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a dalších nečistot.

Vynikající poměr kvality a ceny.

X100VI X100V X100F X100T X100S titan Nemá žádný negativní vliv na činnost systému AUTOFOCUS Pevná ochranná schránka na filtr součástí sady Filtr je pokryt povlaky, které jsou vysoce odolné proti poškrábání a mechanickému poškození.

Poskytují vynikající ochranu filtru i v náročných podmínkách Filtr má povlaky, které usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných nečistot Sada obsahuje: 1x filtr 1x pevný, pevný obal chránící filtr proti poškrábání, poškození a usnadňující přepravu Příklad použití filtru K&F CONCEPT NANO-X. MRCUpozornost!

Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.

Nevyplňujte toto pole:

Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.

Nevyplňujte toto pole: