Delia Cosmetics Stay Flawless Matt Mattifying Foundation 16H No. 405 Peach Natural 30 ml

Dostupnosť Na externom sklade (>5 ks)
Môžeme doručiť do:
7.1.2025
Možnosti doručenia
€8,07 €6,67 bez DPH
Delia Cosmetics Stay Flawless Matt Mattifying Foundation 16H No. 405 Peach Natural 30 ml

Zákazník na prvom miesteSpokojný zákazník je najlepší zákazník

Najvýhodnejšie ceny na trhuDoprava zdarma od 80 Eur

Obrovský výberViac než 100tis. produktov v ponuke

Garancia spokojnostiSpravíme všetko pre Vašu spokojnosť

STAY FAWLESS MATT SKIN DEFINED zmatňujúci podklad 30 ml Ľahký a matný efekt bez zaťaženia po dobu 16 hodín!

Vyrovnáva tón pleti a koriguje nedokonalosti pleti.

Vlastnosti: - reguluje sekréciu kožného mazu počas dňa, vďaka čomu je pleť dokonale matná a hladká až na 16 hodín, - hodvábna textúra pôsobí sťahujúco na rozšírené póry, pomáha pleti znovu získať rovnomerný povrch bez viditeľných nedokonalostí, - vyrovnáva tón pleti a koriguje nedokonalosti pleti , - prispôsobí sa farbe pleti, - perfektne sa kombinuje s bázou a korektorom zo série SKIN DEFINED od Delia, - svetlo rozptyľujúce látky obsiahnuté v podkladovej báze dodávajú pleti jas, - neobsahuje parabény a parafínový olej, - odporúčané pre normálnu, zmiešanú a mastnú pleť, - obsahuje cenné zložky: vitamíny E, B3, extrakt zo zeleného čaju a lotosu.

Zloženie: Aqua, Dimethicone, Isododecan, Cyclopentasiloxane, Silica, PEG-10 Dimethicone, Dimethicone /Vinyldimethikonový krížový polymér, kaprylylmethikon, propándiol, cetyl PEG/PPG-10/1 dimethicone, cyklohexasiloxán, C12-15 alkylbenzoát, PEG/PPG-18/18 dimetikón, disteardimonium hektorit, bonlutrymatelypyroyl, Tokoferol , tokoferylacetát, niacínamid, výťažok z kvetov Nelumbo Nucifera, výťažok z listov Camellia Sinensis, propylénglykol, butylénglykol, kyselina polyhydroxystearová, oxid hlinitý, kyselina stearová, síran horečnatý, chlorid sodný, fenoxyetanol, Ethyl-91myl,glycerín, CI7781hexyl,glycerol, CI7781,glycerol 77491, CI 77492, CI 77499 ]Kapacita [ml]: 30

Buďte prvý, kto napíše príspevok k tejto položke.

Nevypĺňajte toto pole:

Buďte prvý, kto napíše príspevok k tejto položke.

Nevypĺňajte toto pole: