Nano-x Mrc K&f Concept UV filter pre Fujifilm X100 X100s X100v X100f X100vi / Kf01.2703

Dostupnosť Na externom sklade (>5 ks)
Môžeme doručiť do:
16.1.2025
Možnosti doručenia
€26,87 €22,21 bez DPH
Nano-x Mrc K&f Concept UV filter pre Fujifilm X100 X100s X100v X100f X100vi / Kf01.2703

Zákazník na prvom miesteSpokojný zákazník je najlepší zákazník

Najvýhodnejšie ceny na trhuDoprava zdarma od 80 Eur

Obrovský výberViac než 100tis. produktov v ponuke

Garancia spokojnostiSpravíme všetko pre Vašu spokojnosť

Uv filter fototapety NANO-X MRC Navrhnutý pre fotoaparáty FujiFilm: X100VI X100V X100F X100T X100S titán) účinne eliminuje možné žltnutie obrazu Filter zabraňuje odrazom a efektom podsvietenia a zaisťuje dokonalú ostrosť obrazu Ultra HD - vysoké optické rozlíšenie použitého skla 28 antireflexných a ochranných nano-povlakov Mimoriadne nízky SLIM profil (hrúbka len 3,3 mm) Krúžok z hliníka galvanicky pokovovaný v tmavej farbe Sada obsahuje pevný obal na uloženie filtra FILTER S INOVATÍVNYM NANO-COATING Vysoké optické rozlíšenie použitého skla NANO-X MRC - antireflexné a ochranné nano-povlaky Extrémne nízky SLIM profil (hrúbka len 3,3 mm) Prsteň z hliníka galvanicky pokovený v tmavej farbe Sada obsahuje pevný obal na uskladnenie filter Produkt spoločnosti: K&F CONCEPT - nesporný líder kvality vo výrobe fotografických filtrov MODEL: KF01.2703 / UV MRCFSpoločnosť K&F CONCEPT predstavuje výnimočnú kvalitu, profesionálne UV filtre.

Sú to prémiové filtre, len málo filtrov zodpovedá ich kvalite spracovania a úrovni pokroku.

Filter má veľa nano vrstiev – povlakov nanesených na optickú šošovku.

Ultrafialový filter – UV absorbuje ultrafialové žiarenie, čím oddeľuje žiarenie najintenzívnejšie v podmienkach, kde je mimoriadne čistý vzduch (najmä v horách a pri mori), čo spôsobuje zahmlievanie fotografií.

UV filter NANO-X MRC zlepšuje kvalitu fotografií a pri zároveň dokonale chráni šošovku pred všetkými druhmi peľu, mastnoty, prachu a mechanického poškodenia.

Vlastnosti filtra K&F UV NANO-X MRC: Vyrobené z najkvalitnejšieho optického skla, ktoré umožňuje vysoké svetlo prenos (cez 99,9%) Filter má špeciálne nanovrstvy, ktoré účinne znižujú odrazy a zlepšujú kvalitu fotografií. Filter je pokrytý vrstvami, ktoré sú vysoko odolné voči poškriabaniu a mechanickému poškodeniu.

Povlaky tiež uľahčujú čistenie. filtre a zabraňujú nadmernému priťahovaniu prachu, peľu a iných nečistôt.

Vynikajúci pomer kvality a ceny.

X100VI X100V X100F X100T X100S titán Nemá negatívny vplyv na činnosť systému AUTOFOCUS Pevný ochranný box pre filter súčasťou sady Filter je pokrytý povlakmi, ktoré sú vysoko odolné proti poškriabaniu a mechanickému poškodeniu.

Poskytujú vynikajúcu ochranu filtra aj v náročných podmienkach Filter má povlaky, ktoré uľahčujú čistenie filtrov a zabraňujú nadmernému prilákanie prachu, peľu a iných nečistôt Sada obsahuje: 1x filter 1x pevný, pevný obal chrániaci filter proti poškriabaniu, poškodeniu a uľahčujúci transport Príklad použitia filtra K&F CONCEPT NANO-X. MRCUpozornosť!

Buďte prvý, kto napíše príspevok k tejto položke.

Nevypĺňajte toto pole:

Buďte prvý, kto napíše príspevok k tejto položke.

Nevypĺňajte toto pole: