UV filter s ultranízkym odrazom K&f Concept Nano-x Mrc 52 Mm 52 mm / Kf01.2461

Dostupnosť Na externom sklade (>5 ks)
Môžeme doručiť do:
22.1.2025
Možnosti doručenia
€29,34 €24,25 bez DPH
UV filter s ultranízkym odrazom K&f Concept Nano-x Mrc 52 Mm 52 mm / Kf01.2461

Zákazník na prvom miesteSpokojný zákazník je najlepší zákazník

Najvýhodnejšie ceny na trhuDoprava zdarma od 80 Eur

Obrovský výberViac než 100tis. produktov v ponuke

Garancia spokojnostiSpravíme všetko pre Vašu spokojnosť

Ochranný UV filter NANO-X MRC Ultra nízky odraz Veľkosť filtra: 52 mm FILTER NAJKVALITNEJŠIE NAVRHNUTÝ PRE PROFESIONÁLOV FILTER S INOVATÍVNYM NANOPOVRCHOM Veľmi malé množstvo odrazeného svetla (iba 0,1 %), eliminuje 99,9 % polarizovaného svetla a má veľmi vysokú priepustnosť titán (titánový povlak) účinne eliminuje možné skreslenie farieb Ultra HD - vysoké optické rozlíšenie použitého skla 28 Nano-antireflexné a ochranné vrstvy Veľmi malý SLIM profil (hrúbka len 3,3 mm) Krúžok z čierneho pozinkovaného hliníka Pevný obal na uskladnenie v cene filter Firemný produkt: K&F CONCEPT - sprievodca kvalitou pri výrobe fotografických filtrov MODEL: KF01.2461 / 52 mm NANO p>Filter má na optickom skle nanesené viaceré nano-povlaky.

Ochranný UV filter absorbuje ultrafialové žiarenie a blokuje žiarenie, ktoré je najviac prítomné v podmienkach, kde je vzduch veľmi priehľadný (najmä v horách a pri mori), a spôsobuje zahmlievanie fotografií.

UV filter NANO-X MRC nielen zlepšuje kvalitu fotografií, ale aj dokonale chráni šošovku pred prachom, mastnotou, prachom a mechanickým poškodením.

Vlastnosti filtra K&F UV NANO-X MRC: Vyrobené z najkvalitnejšieho japonského optického skla, ktoré poskytuje priepustnosť svetla vyššie 99,9 % Filter má špeciálne nano-povlaky, ktoré výrazne znižujú odrazy a zlepšujú kvalitu fotografií. Filter je tiež pokrytý vrstvami, ktoré sú vysoko odolné voči poškriabaniu a mechanickému poškodeniu.

Povlaky uľahčujú čistenie. filtre a ochranu pred kontamináciou .

Vysoká kvalita za dostupnú cenu.

UV filter NANO-X MRC je kompatibilný so všetkými fotoaparátmi a videokamerami s priemerom. 52 mm objektív.

Filter je vhodný okrem iného pre fotoaparáty s nasledujúcimi objektívmi: Canon: EF-M 18-55 mm f/3,5-5,6 IS STM EF 40 mm f/2,8 STM EF 50 mm f/1,8 II EF 50 mm f/2,5 kompaktný makro EF-S 60 mm f2,8 makro USM EF-S 60 mm f2,8 Macro USM EF 135 mm f/2,8 (so Softfocusom) Nikon: 18-55 mm f/3,5-5,6G AF-S VR DX NIKKOR 18-55 mm f/3,5-5,6GII AF-S DX NIKKOR 55-200 mm f/4-5,6 AF-S VR DX NIKKOR 55-200 mm f/4-5,6G ED AF-S DX NIKKOR 24mm f/2,8D AF NIKKOR 35mm f/2D AF NIKKOR 50mm f/1,8D AF NIKKOR 50mm f/1,4D AF NIKKOR AF-S DX 35mm f/1. Objektív AF-S DX Micro 85 mm f/3,5G ED VR NIKKOR AF-S DX Micro 40 mm f/2,8G NIKKOR AS-S 24 mm f/2,8D 1 NIKKOR VR 6,7–13 mm f/3,5–5,6 Pentax: SMC Pentax-DA 18-55 mm F3,5-5,6 AL SMC Pentax-DA L 18-55mm F3,5-5,6 AL SMC Pentax-DA 18-55mm F3.5-5.6 AL II SMC Pentax-DA 18-55mm F3.5-5.6 AL WR SMC Pentax-DA 50mm F1.8 SMC Pentax-DA 50-200mm F4-5.6 ED Olympus: M.

ZUIKO DIGITAL ED 9-18 mm 1:4,0-5,6 M.

ZUIKO DIGITAL ED 12-50mm 1:3,5-6,3 EZ ZUIKO DIGITAL 35mm makro 1:3,5 ZUIKO DIGITAL ED 50mm makro 1:2,0 Panasonic: LUMIX G Vario 14-45mm / F3,5-5 ASPH. / MEGA O.

I.

S LUMIX G X Vario 45-200 mm f/4-5,6 MEGA O.

I.

S LUMIX G Vario 45-150 mm/F4.0-5.6 ASPH./MEGA O.

I.

S.

Fuji: XF18mm F2 R - Antireflexné a ochranné nanovrstvy Nemenia sa farby rámu - je úplne neutrálny Super tenký a ľahký, SLIM hliníkový rám s hrúbkou len 3,3 mm Titánová povrchová úprava Žiadny negatívny vplyv na činnosť automatického zaostrovania Pevná ochranná krabička na filter súčasťou balenia Filter má povrchovú úpravu, ktorá je vysoko odolná voči poškriabaniu a mechanickému poškodeniu .

Poskytujú vynikajúcu ochranu filtra aj v tých najťažších podmienkach. Filter má povlaky, ktoré uľahčujú čistenie filtra a zabraňujú nadmernému priľnavosť prachu, peľu a iných nečistôt Sada obsahuje: 1x filter 1x pevný pevný obal, ktorý zabraňuje poškriabaniu, poškodeniu a uľahčuje prepravu filtra Príklad použitia filtra K&F CONCEPT NANO-X MRCUPozor!

Buďte prvý, kto napíše príspevok k tejto položke.

Nevypĺňajte toto pole:

Buďte prvý, kto napíše príspevok k tejto položke.

Nevypĺňajte toto pole: