UV FILTR Ultra Low Reflection K&F CONCEPT NANO-X MRC 49 mm 49 mm / KF01.2460

Dostupnost Na externím skladu (>5 ks)
Můžeme doručit do:
13.1.2025
Možnosti doručení
733 Kč 606 Kč bez DPH
UV FILTR Ultra Low Reflection K&F CONCEPT NANO-X MRC 49 mm 49 mm / KF01.2460

Zákazník na prvním místěSpokojený zákazník je nejlepší zákazník

Nejvýhodnější ceny na trhuDoprava zdarma od 2 000 Kč

Obrovský výběrVíce než 100tis. produktů v nabídce

Garance spokojenostiUděláme vše pro Vaši spokojenost

Ochranný UV filtr NANO-X MRC Ultra nízké odrazy Velikost filtru: 49 mm NEJKVALITNĚJŠÍ FILTR PRO PROFESIONÁLY FILTR S INOVATIVNÍM NANOPOVRCHEM Velmi nízký stupeň odrazu 0,1 %, eliminuje 99,9 % polarizovaného světla a vysoká propustnost Nový titan technologie povlakování (titanový povlak) účinně eliminuje možné žloutnutí obrazu Vysoké optické rozlišení použitého skla Ultra HD 28 Nano-antireflexní a ochranné vrstvy Super tenké SLIM pouzdro (tloušťka pouze 3,3 mm) Galvanicky černěný hliníkový kroužek Pevný ochranný obal pro filtr součástí Produkt společnosti: K&F CONCEPT - spolehlivý lídr kvality ve výrobě fotografických filtrů MODEL: KF01.2460 / 49 mm NANO , které jsou bezkonkurenční co do kvality zpracování a pokroku.

The filtr má na optické čočce naneseno mnoho nano povlaků.

Ochranný filtr – UV pohlcuje škodlivé ultrafialové záření a eliminuje světlo, které je nejintenzivnější v podmínkách, kdy je vzduch extrémně čistý (zejména v horách a u moře) a který způsobuje zamlžené efekty na fotografiích.

UV filtr NANO-X MRC nejen zlepšuje kvalitu fotografií, ale také dokonale chrání objektiv proti prachu, mastnotě, nečistotám a mechanickému poškození.

Vlastnosti filtru K&F UV NANO-X MRC: Vyrobeno z nejkvalitnějšího optického skla, což má za následek velmi vysokou propustnost světla – přes 99,9 % Filtr má speciální nanovrstvy, které výrazně snižují odrazy a zlepšují kvalita fotografií.

Filtr je také pokryt vrstvami, které jsou mimořádně odolné proti poškrábání a mechanickému poškození.

Povlaky usnadňují čištění filtrů a zabraňují usazování prachu, pylu a další nečistoty.

Skvělý poměr cena/výkon.

UV filtr NANO-X MRC je určen pro všechny fotoaparáty a videokamery s průměrem objektivu 49 mm.

< p> p>

Filtr je určen mimo jiné pro: Fotoaparáty Sony: NEX-3 NEX-3C NEX-3N NEX-5 NEX-5C NEX-5N NEX-5R NEX-5T NEX-6 NEX-7 NEX -C3 NEX-F3 NEX-VG10 A3000 A3500 A5000 A5100 A6000 A6100 A6300 A6400 A6500 A6600 s E 3,5-5,6/18-55 OSS nebo S 2,8/16 A16 A2EL-3 objektivy Konica/20AL Objektivy 28F28 SEL-24F18Z SEL-16F28 SEL-20F28 SAL-30M28 SEL-55210 SEL-1855 SAL-50F18 SEL-50F18 SEL-30M35 Pentax SMC Pentax-DA 50-200mm F4-200mm F4-200mm F4-5.8D Pentax ED WRmm SEL-5.6D SMC Pentax-D FA 100mm F2.8 Makro SMC Pentax-D FA 100mm F2.8 Makro WR SMC Pentax-DA 15mm F4 ED AL Limited SMC Pentax-DA 35mm F2.4 AL SMC Pentax-DA 35mm F2.8 Limited Macro SMC Pentax-DA 70mm F2 4 Limited SPECIFIKACE FILTRU: Vyrobeno z nejkvalitnějšího japonského optického skla NANO-X MRC - Nano-antireflexní a ochranné vrstvy Nemění barvu rámu - je zcela neutrální Super tenký a lehký, SLIM. hliníkový rám o tloušťce pouze 3,3 mm Titanový povlak No má negativní vliv na chod systému AUTOFOCUS Součástí je pevný ochranný box na filtr Filtr je pokryt povlaky, které jsou extrémně odolné proti poškrábání a mechanickému poškození.

Poskytují vynikající ochranu filtru i v náročných podmínkách. Filtr má navíc povlaky, které usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylů a jiných nečistot. Sada obsahuje: 1x filtr 1x pevný pevný obal, který zabraňuje poškrábání, poškození a usnadňuje přepravu filtru Příklad použití filtru K&F CONCEPT NANO-X MRCUPozor!

Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.

Nevyplňujte toto pole:

Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.

Nevyplňujte toto pole: