UV FILTR Ultra Low Reflection K&F CONCEPT NANO-X MRC 58 mm 58 mm / KF01.2463

Ultrafialový UV filtr NANO-X MRC Ultra-Low Reflection Velikost filtru: 58 mm NEJKVALITNĚJŠÍ FILTR PŘIZPŮSOBENÝ PRO PROFESIONÁLY FILTR S INOVATIVNÍM NANOPOVRCHEM Velmi nízká hodnota odrazu 0,1 %, eliminuje 99,9 % polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnost Nová technologie titanového povlaku (titanový povlak) účinně odstraňuje potenciální žloutnutí obrazu Ultra HD - vysoké optické rozlišení použitého skla 28 Nano-antireflexní a ochranné povlaky Extrémně tenký profil s pokročilou technologií SLIM (tloušťka pouze 3,3 mm) Zpracovaný hliník kroužkové galvanické černění Sada obsahuje pevný obal pro uložení filtru Produkt společnosti: K&F CONCEPT - nezpochybnitelný lídr kvality ve výrobě fotografických filtrů MODEL: KF01.2463 / 58 mm NANO X UV Ultra-Low ReflectionSpolečnost K&F CONCEPT. představuje UV filtry vynikající kvality.

Jedná se o špičkové filtry, není mnoho filtrů, které by odpovídaly jejich zpracování a úrovni vyspělosti.

Filtr má mnoho nano povlaků, které se nanášejí ve vrstvách na optické čočky.

Ultrafialový filtr – UV pohlcuje ultrafialové záření, čímž eliminuje záření, které se nejvíce vyskytuje v podmínkách s mimořádně čistým vzduchem (zejména v horách a u moře), a které způsobuje zamlžený efekt na fotografiích.

NANO UV filtr -X MRC zlepšuje kvalitu fotografií, ale také účinně chrání objektiv proti prachu, mastnotě, prachu a mechanickému poškození.

Vlastnosti filtr K&F UV NANO-X MRC: Vyrobeno z nejkvalitnějšího optického skla, které zajišťuje výjimečně vysokou propustnost světla - přes 99,9 % Filtr je vybaven speciálními nanovrstvami, které snižují odrazy a zlepšují kvalitu pořízených fotografií.

Filtr je navíc pokryt povlaky, které jsou vysoce odolné proti poškrábání a mechanickému poškození.

Povlaky usnadňují čištění filtru a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných nečistot.

UV filtr NANO-X MRC je určen pro všechny fotoaparáty a fotoaparáty s objektivem o průměru 58 mm.

Filtr pasuje, mimo jiné fotoaparáty vybavené následujícími modely objektivů: Nikon: AF-S DX NIKKOR 55-300 mm f/4.5-5.6G ED VR AF-S NIKKOR 50 mm f/1.4G AF-S NIKKOR 50 mm f/1.8G Canon: EF-S 18-55 mm f/3,5-5,6 IS STM EF-S 18-55 mm f/3,5-5,6 IS II EF 24 mm f/2,8 IS USM EF 28 mm f/1,8 USM EF 28 mm f/2,8 IS USM EF 50 mm f/1,4 USM EF 85 mm f/1,8 USM TS-E 90 mm f/2,8 EF 100 mm f/2 USM EF 100 mm f/2,8 makro USM EF-S 55-250 mm f/4-5,6 IS EF 70-300 mm f/4- 5,6 IS USM EF 70-300 mm f/4,5-5,6 DO IS USM EF 75-300 mm f/4-5,6 III EF 75- 300 mm f/4-5,6 III USM Olympus: M.

ZUIKO DIGITAL ED 40–150 mm 1:4,0–5,6 R M.

ZUIKO DIGITAL ED 14–150 mm 1:4,0– 5,6 M.

ZUIKO DIGITAL ED 75 mm 1:1,8 M.

ZUIKO DIGITAL ED 75-300 mm 1:4,8-6,7 M.

ZUIKO DIGITAL ED 75 -300 mm 1:4,8-6,7 II ZUIKO DIGITAL ED 70-300 mm 1:4,0-5,6 Pentax: SMC Pentax-DA* 55mm F1.4 SDM SMC Pentax-DA 55-300mm F4-5.8 ED SMC Pentax-DA L 55-300mm F4-5.8 ED Sigma: 70-300 F4-5.6 DG MACRO 70-300 F4-5.6 APO DG MACRO Panasonic: LUMIX G X VARIO 12-35mm / F2.8 ASPH.

Objektiv Samsung: 18-55mm F 3.5-5.6 OIS Objektiv S1855SB SPECIFIKACE FILTRU: Vyrobeno z nejkvalitnějšího japonského optického skla NANO-X MRC - Nano-antireflexní a ochranné vrstvy Neovlivňuje barvy rámu - je zcela neutrální Extrémně tenký a lehký, SLIM hliníkový rám, silný pouze 3,3 mm Titanový povlak Žádný negativní dopad na provoz AUTOFOCUS Pevný ochranný box na filtr součástí Filtr má povlaky, které jsou vysoce odolné proti poškrábání a mechanickému poškození.

Ochrání filtr i v nejtěžších podmínkách Filtr je vybaven povlaky, které usnadňují čištění a minimalizují přitahování prachu, pylu a další škodliviny Sada obsahuje: 1x filtr 1x pevný, tvrdý obal, který zabraňuje poškrábání, poškození a usnadňuje přepravu filtru Příklad použití filtru K&F CONCEPT NANO-X MRCUPozor!